저압 유도결합 플라즈마에서의 리모트 플라즈마 소스 특성

Abstract

리모트 플라즈마 소스를 장착한 평판형 유도 결합 플라즈마 챔버에서 랑뮤어 프로브를 사용하여 전자 에너지 분포 함수를 측정하였다. 유도결합 플라즈마와 리모트 플라즈마 소스의 구동 주파수는 각각 13.56MHz, 2MHz 이다. 압력 및 알곤 가스의 유량을 변화시킬 때 플라즈마 밀도는 리모트 플라즈마 소스 유무에 대해서는는 증가하는 수준이 크지 않고 압력, 유량 증가에 대해서는 비례하여 증가하는 경향이 명확하였다. 반면에 전자 온도에 대하여서는 리모트 플라즈마 소스가 고 에너지 영역의 밀도를 증가시키며 전자 온도를 높이는데 결정적인 영향을 주었다. 이 현상은 전자 에너지 분포 함수의 변화로 설명할 수 있다.