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Full metadata record
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | 정진욱 | - |
| dc.contributor.author | 백세열 | - |
| dc.date.accessioned | 2018-04-18T06:08:11Z | - |
| dc.date.available | 2018-04-18T06:08:11Z | - |
| dc.date.issued | 2018-02 | - |
| dc.identifier.uri | https://repository.hanyang.ac.kr/handle/20.500.11754/68490 | - |
| dc.identifier.uri | http://hanyang.dcollection.net/common/orgView/200000432822 | en_US |
| dc.description.abstract | 리모트 플라즈마 소스를 장착한 평판형 유도 결합 플라즈마 챔버에서 랑뮤어 프로브를 사용하여 전자 에너지 분포 함수를 측정하였다. 유도결합 플라즈마와 리모트 플라즈마 소스의 구동 주파수는 각각 13.56MHz, 2MHz 이다. 압력 및 알곤 가스의 유량을 변화시킬 때 플라즈마 밀도는 리모트 플라즈마 소스 유무에 대해서는는 증가하는 수준이 크지 않고 압력, 유량 증가에 대해서는 비례하여 증가하는 경향이 명확하였다. 반면에 전자 온도에 대하여서는 리모트 플라즈마 소스가 고 에너지 영역의 밀도를 증가시키며 전자 온도를 높이는데 결정적인 영향을 주었다. 이 현상은 전자 에너지 분포 함수의 변화로 설명할 수 있다. | - |
| dc.publisher | 한양대학교 | - |
| dc.title | 저압 유도결합 플라즈마에서의 리모트 플라즈마 소스 특성 | - |
| dc.title.alternative | The characteristics of remote plasma source in low pressure inductively coupled plasmas | - |
| dc.type | Theses | - |
| dc.contributor.googleauthor | 백세열 | - |
| dc.sector.campus | S | - |
| dc.sector.daehak | 대학원 | - |
| dc.sector.department | 전기공학과 | - |
| dc.description.degree | Master | - |
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- GRADUATE SCHOOL[S](대학원) > ELECTRICAL ENGINEERING(전기공학과) > Theses (Master)
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