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대기압에서 실리콘 양자점 제조 및 비휘발성 메모리의 응용

Title
대기압에서 실리콘 양자점 제조 및 비휘발성 메모리의 응용
Author
안강호
Issue Date
2005-04
Publisher
한국반도체및디스플레이장비학회
Citation
한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집, Page. 146-150
Abstract
상온/상압의 분위기에서 코로나 분사 합성법을 이용하여 반도체 실리콘 나노 입자를 제조하였으며, 실리콘 입자의 전기적 특성을 관찰하기 위해 p-type 실리콘웨이퍼 위에 실리콘 나노 입자를 증착시켰다. 이때, 제조된 실리콘 나노 입자의 크기는 약 10 nm이었으며 기하표준편차는 1.31로 단분산성을 나타내었다. 이러한 조건에서, 실리콘 나노 입자의 양자 점 효과를 이용한 비휘발성 반도체 메모리를 제조하여 메모리효과를 분석한 결과, flat band voltage의 차이가 약 1.5 Volt 발생함을 확인하였다.
URI
http://koreascience.or.kr/article/CFKO200509409834596.page?&lang=kohttps://repository.hanyang.ac.kr/handle/20.500.11754/182583
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