분광 엘립소미트리를 이용한 유리기판 위의 박막분석

Abstract

Spectroscopic ellipsometry는 다양한 물질의 광학적 특성을 연구할 수 있는 강력한 기술이다. 현재 실리콘 웨이퍼 위의 박막 분석에는 그 효율성이 확실히 입증되어 있다. 그러나 현재 산업은 유리 기판위의 박막을 분석하기를 원하고 있다. Ellipsometry로 투명기판을 분석하기 위해서는 후면 반사에 의한 비간섭성 효과를 고려해야 한다. 기존의 반사공식을 투명기판의 비간섭성을 고려하여 수정하였다. 투명기판 위의 샘플과 scratch 를 낸 같은 샘플을 측정 분석하여 정확성을 확인하였다. 수정된 반사공식을 이용하면 디스플레이와 같은 투명재료를 이용하는 곳에 유용하게 사용될 것으로 기대되고 있다.