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dc.contributor.author박진석-
dc.date.accessioned2021-07-22T04:30:39Z-
dc.date.available2021-07-22T04:30:39Z-
dc.date.issued2000-07-
dc.identifier.citation대한전기학회 학술대회 논문집, page. 1485-1487en_US
dc.identifier.urihttps://www.dbpia.co.kr/journal/articleDetail?nodeId=NODE01346964-
dc.identifier.urihttps://repository.hanyang.ac.kr/handle/20.500.11754/162977-
dc.description.abstractRF magnetron sputtering 방법에 의한 구리-니켈 박막의 증착시, 두 개의 타겟을 이용하는 multi-targets co-sputtering 방법과, 한 개의 타겟위에 면적비의 변화가 가능한 chip을 부착하여 증착하는 방법 등 두 가지의 타겟 구성방법에 따라 각각 제작된 Cu-Ni 박막의 물성을 비교 분석하였다.en_US
dc.language.isoko_KRen_US
dc.publisher대한전기학회en_US
dc.title마그네트론 코-스퍼터링에 의한 구리-니켈 합금박막 증착시 타겟의 구성방법에 따른 물성 분석en_US
dc.title.alternativeCharacterization of Cu-Ni alloy thin films deposited by magnetron co-sputtering as a function of target configurationsen_US
dc.typeArticleen_US
dc.relation.journal전기학회논문지(A,B,C,D)-
dc.contributor.googleauthor서수형-
dc.contributor.googleauthor이재엽-
dc.contributor.googleauthor박창균-
dc.contributor.googleauthor박진석-
dc.relation.code2012101073-
dc.sector.campusE-
dc.sector.daehakCOLLEGE OF ENGINEERING SCIENCES[E]-
dc.sector.departmentDIVISION OF ELECTRICAL ENGINEERING-
dc.identifier.pidjinsp-
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COLLEGE OF ENGINEERING SCIENCES[E](공학대학) > ELECTRICAL ENGINEERING(전자공학부) > Articles
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