안테나 형태에 따른 대면적 ICP 플라즈마의 균일도 변화에 관한 연구

Abstract

대면적 균일 ICP 플라즈마를 발생시킬 수 있는 IPC용 안테나 개발을 위하여 안테나 구조와 안테나에 흐르는 전류 방향에 따른 발생 플라즈마의 특성을 Langmuir 탐침과 자기 탐침을 이용하여 관찰하였다. 안테나의 구조가 내부 안테나와 외부 안테나로 이루어진 두 안테나에 흐르는 전류방향이 반대 방향일 때는 같은 방향일 때보다 플라즈마 밀도 균일도가 향상되는 경향을 가졌다. 직경 300mm에서의 플라즈마 균일도가 2~3%를 나타내었다. 이 결과를 이용하여 Super Flat Antenna(SFA)를 개발하였다.

This paper presents effects of antenna shape and current direction on plasma density uniformity for a large area uniform ICP plasma parameters. The antennae were composed of a rectangular inner and outer antenna. When the current direction along the antenna was opposite, plasma uniformity was improved in compare with the same current direction along the antenna. The optimized antenna can generate the uniform plasma within 2-3% uniformity in 300mm diameter and is called Super Flat Antenna (SFA).