Full metadata record
DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.author | 안일신 | - |
dc.date.accessioned | 2019-07-26T06:25:36Z | - |
dc.date.available | 2019-07-26T06:25:36Z | - |
dc.date.issued | 2006-05 | - |
dc.identifier.citation | 한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집, Page. 172-176 | en_US |
dc.identifier.uri | http://www.koreascience.or.kr/article/CFKO200631037010474.page | - |
dc.identifier.uri | https://repository.hanyang.ac.kr/handle/20.500.11754/107941 | - |
dc.description.abstract | 본 논문에서는 물을 이용한 193nm immersion lithography에서 물이 photoresist(PR)에 흡수되는 현상을 측정하기 위하여 타원해석기(Ellipsometer)의 응용 가능성을 연구하였다. 물이 PR 에 흡수됨에 따라 swelling 현상이 발생하여 두께 증가로 나타났는데 이는 실시간 타원해석기를 적용하여 시간에 따른 두께 변화를 분석함으로써 그 반응정도를 분석해 낼 수 있었다. 또한 짧은 시간에 발생하는 물의 흡수 현상은 imaging 타원해석기론 이용하여 규명할 수가 있었다. | en_US |
dc.language.iso | ko_KR | en_US |
dc.publisher | 한국반도체및디스플레이장비학회 | en_US |
dc.title | Ellipsometry를 이용한 193 nm photoresist에서의 물의 흡수 연구 | en_US |
dc.type | Article | en_US |
dc.contributor.googleauthor | 이형주 | - |
dc.contributor.googleauthor | 이정환 | - |
dc.contributor.googleauthor | 서주빈 | - |
dc.contributor.googleauthor | 경재선 | - |
dc.contributor.googleauthor | 안일신 | - |
dc.sector.campus | E | - |
dc.sector.daehak | COLLEGE OF SCIENCE AND CONVERGENCE TECHNOLOGY[E] | - |
dc.sector.department | DEPARTMENT OF PHOTONICS AND NANOELECTRONICS | - |
dc.identifier.pid | ilsin | - |
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