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Issue Date | Title | Author(s) |
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2007-09 | Which Mask is Preferred for Sub-60 nm Node Imaging? | 오혜근 |
2000-02 | 감광제 고유의 ABC 노광변수 추출 시뮬레이터 | 오혜근 |
2003-12 | 거친 표면을 가진 흡수체와 버퍼의 측면에 의한 극자외선 산란효과 | 오혜근 |
2004-12 | 극자외선 리소그래피에서 마스크 결함에 의한 이미지 특징 | 오혜근 |
2002-01 | 기판 단차에 따른 감광제의 분포와 선폭 변화 | 오혜근 |
2003-12 | 복합적인 레지스트 패턴 붕괴현상의 역학적 해석 | 오혜근 |
2002-09 | 신경망을 이용한 공정 오차 보정 | 오혜근 |
2002-09 | 패턴 Top Rounding 효과를 고려한 패턴 붕괴 전산모사 | 오혜근 |
2002-01 | 화학 증폭형 감광제의 전산모사를 위한 PEB 변수 추출 | 오혜근 |