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dc.contributor.author오재응-
dc.date.accessioned2023-07-10T01:18:34Z-
dc.date.available2023-07-10T01:18:34Z-
dc.date.issued2006-07-
dc.identifier.citation새물리, v. 53, NO. 1, Page. 34-38-
dc.identifier.issn0374-4914;2289-0041-
dc.identifier.urihttps://www.kci.go.kr/kciportal/ci/sereArticleSearch/ciSereArtiView.kci?sereArticleSearchBean.artiId=ART001019131en_US
dc.identifier.urihttps://repository.hanyang.ac.kr/handle/20.500.11754/182745-
dc.description.abstractMolecular Beam Epitaxy 법을 이용하여 Si(001) 기판 위에 저온에서 성장된 얇은 AlSb 완충층을 사용하여 GaSb박막을 성장하였다. AlSb 완충층의 표면 및 격자상수 변화와 성장된 GaSb 박막의 결정성을 평가하기 위하여 reflection high-energy electron diffraction, atomic force microscope, high-resolution X-ray diffraction, transmission electron microscope를 각각 사용하였다. AlSb 완충층 없이 직접 GaSb박막을 성장하였을 때 3차원 성장을 보였지만 저온의 얇은 AlSb 완충층을 사용하였을 때 Si과 GaSb의 접합계면에서의 결함을 줄여주어 GaSb 박막의 결정성 향상에 기여함을 확인하였다. 초기 성장 시 Si(001)위에 Sb 흡착을 했을 때가 안 했을 때 보다 GaSb 박막의 결정성이 더 좋음을 아울러 확인하였다.-
dc.languageko-
dc.publisher한국물리학회-
dc.title얇은 AlSb 완충층을 사용한 GaSb/Si(001) 박막평가-
dc.title.alternativeDependence of thin AlSb buffer of GaSb/Si(001)-
dc.typeArticle-
dc.relation.no1-
dc.relation.volume53-
dc.relation.page34-38-
dc.relation.journal새물리-
dc.contributor.googleauthor노영균-
dc.contributor.googleauthor김문덕-
dc.contributor.googleauthor권영진-
dc.contributor.googleauthor김송강-
dc.contributor.googleauthor김영헌-
dc.contributor.googleauthor박세린-
dc.contributor.googleauthor오재응-
dc.contributor.googleauthor이정용-
dc.sector.campusE-
dc.sector.daehak공학대학-
dc.sector.department전자공학부-
dc.identifier.pidjoh-
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COLLEGE OF ENGINEERING SCIENCES[E](공학대학) > ELECTRICAL ENGINEERING(전자공학부) > Articles
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