Nanotribological Characterization of Fluorocarbon Thin Film by Plasma Enhanced CVD

Abstract

현재 초소형 정밀기계 소자의 가장 큰 문제점으로 대두되고 있는 점착 현상을 방지하기 위하여 불화유기박막을 증착하였다. C4F8을 소스 가스로 하여 PECVD를 이용하여 증착하였다. 여기에 Ar을 첨가하여 플라즈마의 반응성을 높여주었다. 형성된 불화유기 박막의 나노트라이볼러지 특성을 살펴보기 위해 AFM을 통하여 증착시킨 시편의 topography를 살펴보았다. 그리고 박막의 antiadhesion의 정도를 알아보기 위해 contilever와 박막의 표면 사이에 존재하는 interaction force를 측정하였고 AFM의 force-distance curve mode를 이용하였다. PECVD를 이용한 박막은 균일하지 못한 박막을 보였으며 attractive force 가 강한것으로 생각된다.