Design and Construction of Combinatorial Library on Solid Substrate

Abstract

본 연구는 조합 방법들을 이용한 고분자 흡착에 관한 연구이 다. 고분자의 흡착 연구는 고체기판 위 고분자 특성인 소수성 과 친수성에 매우 중요한 관계가 있다. 본 연구의 목표는 표 면 위를 소수성에서부터 친수성까지의 다른 표면에너지를 가 지는 친수성 기울임을 주는 시스템의 고안하기 위한 것이다. 2차원적 친수성 기울임은 실리콘기판 위에 클로로다이메틸옥 틸실레인을 준비하고, 랩뷰에 의해 프로그램 되어있는 스테이 지는 x-y축으로 움직여진다. 자기조립박막형성은 실리콘기판 위에 담그기 방법에 의해 만들어졌다. 실리콘기판이 2차원 기 울임 장치 위에 놓아지면 랩뷰프로그램은 2차원 기울임 장치 를 스테이지가 속도차이에 의해 자외선램프 아래를 지나가도 록 조작한다. 스테이지의 속도차이는 표면 위의 각기 다른 부 분에 자외선 시간 차이로 노출시키기 위한 것이다. 자외선에 노출되는 정도 차이에 의해 소수성에서부터 친수성까지의 2차 원 기울임이 형성된다. 컨택트앵글, 일립소메트리와 엑스선광 전자분광기를 사용해서 표면물질의 특성과 분자구성의 변화 정도를 측정한다. 앞으로, 앞에서 고안된 2차원 친수성 기울 임 시스템으로 다른 고분자 물질들의 친수성 변화들에 관한 자료들을 얻을 수 있을 것이다; Combinatorial method was applied for the surface characterization of different surface energy gradient. Surface energy gradient is important for the high throughput experiment of the hydrophilic and hydrophobic surface. A main topic of this study is to design a hydrophilic gradient system that has different surface energy from hydrophobic to hydrophilic on surface. 2D hydrophilicity gradient was prepared by chlorodimethyl octylsilane (ODS) on a Si wafer, where the stage was moved in x-y direction programmed by a LabVIEW. Self-assembled monolayers (SAMs) on a Si wafer were built by dipping method. Si wafer was placed on 2D gradient device stage and LabVIEW program controlled 2D gradient device stage that went through under UV-lamp with velocity difference. Velocity difference of stage is to expose to the time difference of UV at each other part on surface. 2D gradient was made by the strength difference of UV from hydrophobicity to hydrophilicity. The property changes of surface material (ODS) and molecular composition gradient were observed and characterized using contact-angle, ellipsometry and XPS.