Issue Date | Title | Author(s) |
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2019 | 양자 알고리즘을 통한 외판원 문제 해결 | 장현성 |
2019-02 | Tm 광섬유 레이저를 펌핑광원으로 이용한 Ho 광섬유 레이저 | 박진수 |
2019-02 | 극 자외선 리소그래피용 펠리클 위에 있는 큰 오염물질이 패턴에 미치는 영향 | 노희라 |
2018-02 | 큰 개구수를 위한 비균등 리소그래피 공정에서의 방향에 따른 보조 패턴의 영향 | 최재근 |
2018-02 | 고출력 Nd:YVO4 MOPA 레이저 시스템에 관한 연구 | 노승현 |
2018-02 | 7-nm 급 패터닝에서 극 자외선 리소그래피 광학계 수차에 의한 선폭 왜곡 평가 | 황정구 |