Full metadata record
DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.advisor | 안진호 | - |
dc.contributor.author | 심규현 | - |
dc.date.accessioned | 2020-03-26T17:04:34Z | - |
dc.date.available | 2020-03-26T17:04:34Z | - |
dc.date.issued | 2011-02 | - |
dc.identifier.uri | https://repository.hanyang.ac.kr/handle/20.500.11754/140097 | - |
dc.identifier.uri | http://hanyang.dcollection.net/common/orgView/200000416352 | en_US |
dc.description.abstract | 본 연구는 나노임프린트와 포토리소그래피를 동시에 적용할 수 있는 SMM(Stamp mold mask)의 제작을 통하여 나노임프린트 리소그래피와 포토리소그래피를 결합한 새로운 공정으로 기존 나노임프린트로 구현하기 어려웠던 high aspect ratio ( >4)패턴을 구현하였다. | - |
dc.publisher | 한양대학교 | - |
dc.title | 복합적 임프린트 기술을 이용한 High aspect ratio 패턴형성 공정개발 | - |
dc.title.alternative | Process development for high aspect ratio patterns using combined imprint techniques | - |
dc.type | Theses | - |
dc.contributor.googleauthor | 심규현 | - |
dc.contributor.alternativeauthor | Shim, Kyuhyun | - |
dc.sector.campus | S | - |
dc.sector.daehak | 대학원 | - |
dc.sector.department | 신소재공학과 | - |
dc.description.degree | Master | - |
dc.contributor.affiliation | 신소재공학 | - |
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