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dc.contributor.advisor유창식-
dc.contributor.author최용재-
dc.date.accessioned2020-03-06T16:33:10Z-
dc.date.available2020-03-06T16:33:10Z-
dc.date.issued2013-02-
dc.identifier.urihttps://repository.hanyang.ac.kr/handle/20.500.11754/133401-
dc.identifier.urihttp://hanyang.dcollection.net/common/orgView/200000420777en_US
dc.description.abstract새롭게 제안된 3.3V fail-safe I/O 회로는 새로운 바이어스 생성회로를 이용하여 gate driver 전압을 만들어주며, 이를 통하여 CMOS gate의 과전압을 방지하여 gate-oxide reliability를 확보하였다. 또한, 새로운 n-well 바이어스 전압 발생기를 사용하여 junction leakage current의 발생을 최소화하였다. Parasitic capacitance에 의한 동작 속도가 느려지는 문제를 제안된 회로를 통하여 개선하였다. 45nm CMOS 공정을 이용하여 설계를 수행하였다.-
dc.publisher한양대학교-
dc.title45-nm 공정에서의 fail-safe 3.3-V I/O 패드-
dc.typeTheses-
dc.contributor.googleauthor최용재-
dc.sector.campusS-
dc.sector.daehak대학원-
dc.sector.department전자컴퓨터통신공학과-
dc.description.degreeMaster-
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GRADUATE SCHOOL[S](대학원) > ELECTRONICS AND COMPUTER ENGINEERING(전자컴퓨터통신공학과) > Theses (Master)
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