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큰 개구수를 위한 비균등 리소그래피 공정에서의 방향에 따른 보조 패턴의 영향

Title
큰 개구수를 위한 비균등 리소그래피 공정에서의 방향에 따른 보조 패턴의 영향
Other Titles
The impact of SRAFs according to the directions in anamorphic high numerical aperture lithography
Author
최재근
Alternative Author(s)
Choi, Jae Keun
Advisor(s)
오혜근
Issue Date
2018-02
Publisher
한양대학교
Degree
Master
Abstract
1x nm 급 이하의 작은 선폭을 가지는 패턴을 만들기 위해 높은 개구수가 적용된 anamorphic lithography 기술이 제안되었다. 하지만 높은 개구수 때문에 해당 광학 시스템에서의 초점 심도가 극히 작아지는 현상이 발견 되었고 이를 해결하기 위해서 해상도 향상 기술 (Resolution Enhancement Techniqus, RET)이 필요하다. 하지만, 기존의 isomorphic lithography 기술에서는 없던 문제점들이 발생하면서 이를 고려한 적절한 공정 최적화 작업이 필요하게 되었다. 공정에 사용되는 마스크는 다양한 패턴이 존재하기 때문에 패턴의 기하학적인 모양도 다양하다. 특히, 패턴 사이의 간격에 따라 광학적 현상이 서로 다르게 나타나고 이로 인해 원하는 선폭의 패턴을 만들기 어려워진다. 또한, anamorphic system의 특징인 서로 다른 x, y축의 배율로 인해 패턴 방향에 따른 패터닝 결과가 다르게 나타날 수 있다. 따라서, 이러한 특성을 고려하여 해상도 향상 기술 중의 하나인 Sub-Resolution Assist Features (SRAFs)의 배치 방법을 모색하고 공정 여유도 확보를 위한 시뮬레이션을 진행하였다. 본 논문에서는 SRAFs의 배치 방법을 달리 하여 패턴 방향에 따른 공정 여유도를 확인하였다. 그 결과 수평 방향의 패턴에 대해서는 초점 심도를 좀 더 확보할 수 있었고, 초점에 대한 선폭의 민감도를 약간 줄이는 효과가 있다는 것을 알 수 있었지만, 수직 방향의 패턴에 대해서는 수평 방향 패턴에 비해 그 결과가 미비하다는 것을 알 수 있었다.; In order to make small patterns below 10 nm, an anamorphic high NA (0.55) EUV lithography is suggested. The depth of focus (DOF) is markedly small for high NA system, however, it is much smaller for isolated patterns than dense patterns. Under illumination conditions of quasar with 45˚ opening and rotating, σ (0.7/0.9), the DOF is about 110 nm at 11 nm dense line, however, the overlapping DOF without sub-resolution assist feature (SRAF) is only about 50 nm with 121 nm pitch. Overlapping process window (PW) between dense and isolated patterns makes a big impact on high NA system. Although the pitch-dependent PW for both horizontal and vertical patterns are similar, Bossung curves of vertical lines for larger pitches are tilted more than those of horizontal lines. For these reasons, SRAFs are expected to be used for other geometric conditions such as placement, size, and the number of SRAFs and so on.
URI
https://repository.hanyang.ac.kr/handle/20.500.11754/68395http://hanyang.dcollection.net/common/orgView/200000432977
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GRADUATE SCHOOL[S](대학원) > APPLIED PHYSICS(응용물리학과) > Theses (Master)
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