93 0

변형된 극 자외선 마스크 흡수체 구조가 패터닝에 미치는 영향과 결함 방지를 위한 펠리클 적용

Title
변형된 극 자외선 마스크 흡수체 구조가 패터닝에 미치는 영향과 결함 방지를 위한 펠리클 적용
Author
고기호
Advisor(s)
오혜근
Issue Date
2018-02
Publisher
한양대학교
Degree
Doctor
Abstract
본 논문에서는 극 자외선 마스크 세정공정에서 발생할 수 있는 흡수체 변형 문제에 대해 연구하고, 세정공정을 최소화하기 위한 펠리클 구조를 제시하며, 더 나아가 펠리클 적용 시 손실된 광원 에너지를 보상할 수 있는 광 근접 보정 방법에 대한 실효성을 검증하여 최종적으로 극 자외선 리소그래피 상용화에 기여할 수 있는 다각적인 해결책을 제시한다. 먼저, 리소그래피 전산모사를 활용하여 극 자외선 마스크의 변형된 흡수체 구조가 패터닝에 미치는 영향을 분석하였다. 흡수체 측벽각도 변화에 따라 웨이퍼상의 선폭이 크게 변하는 것을 확인할 수 있었고, 수평 방향의 작고 밀도가 높은 패턴일수록 그 영향이 심각해지는 것을 알 수 있었다. 또한 낮은 흡수체 구조를 적용하여 그 영향을 두 배 이상 낮출 수 있다는 것을 증명하였다. 이러한 흡수체 변형을 야기하는 세정공정을 최소화할 수 있는 극 자외선 마스크용 펠리클 중, 벌집 모양의 그물 구조가 지지대로 적용 된 펠레클 구조의 광학적 특성을 분석하였으며, 그물 구조가 마스크 위에 만들어 내는 불균일한 빛의 세기 분포가 선폭에 미치는 영향을 전산모사 하였다. 조명 조건에 따라 불균일도를 최소화할 수 있는 방안을 연구하였으며, 원하는 패턴 선폭에 영향을 미치지 않는 특정 구조를 최적화할 수 있음을 확인했다. 마지막으로, 펠리클이 흡수하는 광원에너지 때문에 발생할 수 있는 생산성 저하를 보상하기 위한 광 근접 보정 효과에 대해 연구하였다. 최근 발표된 펠리클 구조에 대한 목표투과율 범위 안에서 노광에너지가 감소됨에도 불구하고 패터닝 능력을 벗어나지 않는 한계에서 광 근접 보정을 적용하여 같은 선폭의 패턴을 같은 노광량으로 만들어 낼 수 있음을 확인하였다.
URI
http://www.dcollection.net/handler/hanyang/000000104749http://repository.hanyang.ac.kr/handle/20.500.11754/68394
Appears in Collections:
GRADUATE SCHOOL[S](대학원) > APPLIED PHYSICS(응용물리학과) > Theses (Ph.D.)
Files in This Item:
There are no files associated with this item.
Export
RIS (EndNote)
XLS (Excel)
XML


qrcode

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

BROWSE