87 0

마스크 3차원 효과를 고려한 고 개구수 비균등극 자외선 광학계의 패터닝 특성 평가

Title
마스크 3차원 효과를 고려한 고 개구수 비균등극 자외선 광학계의 패터닝 특성 평가
Other Titles
Evaluation of patterning characteristics of anamorphic high numerical apertureextreme ultra-violet optical systemconsidering mask 3-D effect
Author
김인선
Alternative Author(s)
Kim, In Seon
Advisor(s)
오혜근
Issue Date
2018-02
Publisher
한양대학교
Degree
Doctor
Abstract
극 자외선 리소그래피는 미세 패턴 형성을 위한 차세대 리소그래피 기술로 주목받고 있다. 매우 짧은 파장을 사용하여 높은 해상력을 지니고 있으나, 기존의 리소그래피와는 달리 반사형 광학계를 사용함으로 인해 마스크 구조 및 방향에 따라 패턴 결과가 달라지는 마스크 3-D 효과를 지니고 있다. 해상력 향상을 위해 제안된 고 개구수 비균등 광학계는 기존의 극 자외선 리소그래피 광학계와는 달리 타원형의 마스크 개구수와 비등방 마스크 패턴을 지니고 있어, 마스크에서 입사각 분포, 방향에 따른 마스크 배율 변화를 갖고 있다. 이 두 가지 변화는 기존에 마스크 3-D 효과로 인한 수평/수직 패턴 크기 문제를 완화시켰으나, 휘어진 마스크 슬릿 내에서 방위각 변화로 인해 발생하였던 패턴 불균일도 문제를 완화시키지 못한다. 마스크 배율이 낮은 수직 패턴이 배율이 높은 수평 패턴보다 패턴이 작아 슬릿 내에서 불 균일도가 커서 패턴 보정 시, 수직 패턴에 주의를 기울여야 한다. 또한 마스크 패턴 보정 시 패턴의 민감도를 나타내는 지표인 MEF(Mask error factor)는 비균등 광학계를 사용함으로써 기존 광학계보다 개선됨 값을 가진다. 하지만, trench 패턴에서 여전히 높은 MEF 값을 지니고 있어 우려되나 적절한 마스크 패턴 보정을 통해 개선이 가능함을 확인하였다. 비균등 광학계는 기존 광학계보다 높은 개구수를 지니고 있어 해상력이 좋을 뿐만 아니라, 대칭에 가까운 입사각 분포와 패턴 방향에 따라 변화하는 마스크 배율 덕분에 기존에 문제되었던 패턴 방향에 따른 패터닝 오류 변화가 완화되어 2차원의 복잡한 패턴에서 우수한 패터닝 특성을 나타내며, 마스크 보정을 통해 1에 가까운 MEF 성취가 가능하여 미세 패턴뿐만 아니라 복잡한 2차원 로직 패턴에도 적용 가능하다고 판단된다.
URI
http://www.dcollection.net/handler/hanyang/000000104751http://repository.hanyang.ac.kr/handle/20.500.11754/68393
Appears in Collections:
GRADUATE SCHOOL[S](대학원) > APPLIED PHYSICS(응용물리학과) > Theses (Ph.D.)
Files in This Item:
There are no files associated with this item.
Export
RIS (EndNote)
XLS (Excel)
XML


qrcode

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

BROWSE