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ALD 반응에서 BTBAS Precursor의 화학 흡착 효과를 이용한 저온 상태에서의 표면 증착

Title
ALD 반응에서 BTBAS Precursor의 화학 흡착 효과를 이용한 저온 상태에서의 표면 증착
Author
이평수
Advisor(s)
최덕균
Issue Date
2021. 2
Publisher
한양대학교
Degree
Master
Abstract
ALD 전구체의 비 침습적 검사법을 통하여 BTBAS 물질의 ALD 표면 반응과 패턴 형성에 대해 이해하고, 기존에 사용중인 전구체 물질에 대한 조사를 통하여 800℃ 이상의 고온에서 사용하는 방식이 아닌 화학 흡착(chemisorption) 반응을 이용한 저온에서도 ALD 증착이 가능하다.
URI
https://repository.hanyang.ac.kr/handle/20.500.11754/159623http://hanyang.dcollection.net/common/orgView/200000485337
Appears in Collections:
GRADUATE SCHOOL[S](대학원) > MATERIALS SCIENCE & ENGINEERING(신소재공학과) > Theses (Master)
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