홀로리소그래피에 의한 웨이퍼-스케일 금속 나노 디스크 제작

Abstract

홀로리소그래피는 시간과 비용적인 측면에서 파장 이하의 크기를 가지는 광학 집적 회로를 만드는데 유용한 기술로 수 cm2 크기의 넓은 면적에 제작할 수 있는 장점이 있다. 또한, 노광 시간을 조절함으로써 구조물의 크기와 입사 각도에 변화를 주어서 주기적인 특징을 쉽게 조절할 수 있으며, 반복 제작에 대한 높은 재현성을 가지고 있다. 본 논문에서는 홀로리소그래피를 이용하여 감광제 마스크를 제작하고 식각함으로써 100 ~ 200 nm의 지름을 가지는 금 나노 디스크를 제작하였다. 디스크의 지름과 주기의 다양한 변화를 주어 제작한 금 나노 디스크에 대해서 분광기를 사용한 흡수도를 측정하여 디스크 지름의 변화와 격자의 주기를 조절하여 디스크 간 거리의 변화에 따른 공명 파장을 측정하였으며 Mie 이론을 통한 계산 결과와 비교를 통하여 광학적 특성을 분석하였다.