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Rigorous coupled-wave analysis를 이용한 극자외선 리소그래피에서 그림자 효과를 줄이기 위한 마스크 변형

Title
Rigorous coupled-wave analysis를 이용한 극자외선 리소그래피에서 그림자 효과를 줄이기 위한 마스크 변형
Other Titles
Mask modification for the shadow effect reduction by Rigorous coupled-wave analysis in extreme ultraviolet lithography
Author
오혜근
Issue Date
2005-12
Publisher
한양대학교 이학기술연구소
Citation
이학기술연구지, v. 8, Page. 43-47
URI
https://www.earticle.net/Article/A106215http://repository.hanyang.ac.kr/handle/20.500.11754/111952
ISSN
2005-9051
Appears in Collections:
COLLEGE OF SCIENCE AND CONVERGENCE TECHNOLOGY[E](과학기술융합대학) > APPLIED PHYSICS(응용물리학과) > Articles
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