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Ellipsometry를 이용한 193 nm photoresist에서의 물의 흡수 연구

Title
Ellipsometry를 이용한 193 nm photoresist에서의 물의 흡수 연구
Author
안일신
Issue Date
2006-05
Publisher
한국반도체및디스플레이장비학회
Citation
한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집, Page. 172-176
Abstract
본 논문에서는 물을 이용한 193nm immersion lithography에서 물이 photoresist(PR)에 흡수되는 현상을 측정하기 위하여 타원해석기(Ellipsometer)의 응용 가능성을 연구하였다. 물이 PR 에 흡수됨에 따라 swelling 현상이 발생하여 두께 증가로 나타났는데 이는 실시간 타원해석기를 적용하여 시간에 따른 두께 변화를 분석함으로써 그 반응정도를 분석해 낼 수 있었다. 또한 짧은 시간에 발생하는 물의 흡수 현상은 imaging 타원해석기론 이용하여 규명할 수가 있었다.
URI
http://www.koreascience.or.kr/article/CFKO200631037010474.pagehttp://repository.hanyang.ac.kr/handle/20.500.11754/107941
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COLLEGE OF SCIENCE AND CONVERGENCE TECHNOLOGY[E](과학기술융합대학) > PHOTONICS AND NANOELECTRONICS(나노광전자학과) > Articles
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